半導體行業(yè)
真空設備在半導體行業(yè)中的應用愈來愈廣泛，例如真空鍍膜設備（蒸發(fā)，濺射），干法雷設備（ICP,RIE,PECVD）,熱處理設備（合金爐，退火爐），摻雜設備（離子注入機等）這些真空設備作為半導體技術發(fā)展不可或缺的條件必將起到越來越重要的作用。 氦質(zhì)譜檢漏儀現(xiàn)已廣泛應用于半導體設備檢漏。
半導體設備及材料需要檢漏原因：
1、半導體設備要求高真空，比如磁控濺射臺、電子束蒸發(fā)臺、ICP、PECVD等設備。出現(xiàn)泄漏就會導致高真空達不到或需要大量的時間，耗時耗力；
2、在高真空環(huán)境潔凈度高、水蒸氣很少。一旦出現(xiàn)泄漏周圍環(huán)境中的灰塵和懸浮顆粒或塵埃就會對晶元造成污染，對半導體的特性改變并破壞其性能，因此在半導體器件生產(chǎn)過程中必須進行氦質(zhì)譜檢漏；
3、一些半導體設備要用到有毒或有腐蝕性的特殊氣體，經(jīng)過氦質(zhì)譜檢漏后，在低漏率真空條件下，這些氣體不易外泄，設備能及時抽走未反應氣體和氣態(tài)反應產(chǎn)物，保障工作人員安全和大氣環(huán)境。
4、芯片封裝，一旦出現(xiàn)泄漏，芯片就會失效。
半導體氦質(zhì)譜檢漏有兩種方法
1. 真空法 2.吸槍法